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管式燒結(jié)爐技術(shù)參數(shù) 爐體結(jié)構(gòu) 采用冷軋板，經(jīng)過數(shù)控等設(shè)備機床密加工而成，外表面經(jīng)過高溫處理，的風(fēng)冷雙層爐體結(jié)構(gòu)，爐殼之間裝有風(fēng)機，可以快速升降溫，了良好的工作環(huán)境。

更新日期：2024-10-22

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￥8588

管式爐廠家-管式爐以電加熱，采用雙層殼體結(jié)構(gòu),智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫度高；雙層爐殼間風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；結(jié)合我司真空、氮氣系統(tǒng)、混氣系統(tǒng)、真空通氮系統(tǒng)。（選配）

更新日期：2024-10-22

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￥8500

智能管式爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫度高；雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

更新日期：2024-10-22

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迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐膛材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內(nèi)爐膛表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。 適用范圍：主要應(yīng)用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛

更新日期：2024-10-22

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￥8900

1200℃微型開啟式管式爐AFD-1200X-S是小型管式爐，工作限制溫度為1200℃，功率限制為1200W，可配置直徑為1“或2“的高純石英爐管。爐管兩端配置對不銹鋼法蘭，設(shè)有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒結(jié)。

更新日期：2024-10-22

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大口徑管式氣氛爐AFD-1100X采用高純石英管，外徑規(guī)格有6″、8″、8.5″、11″可選，并配有不銹鋼法蘭，可進行抽真空或通入其他氣氛氣體操作，主要用于大尺寸樣品燒結(jié)的需求。

更新日期：2024-10-22

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￥9850